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Atelier sur la préparation des substrats pour l'épitaxie

22-24 mai 2018, Villeneuve d'Ascq (IEMN) 

Présentations invitées

Présentation Charles Cornet (INSA Rennes):

Préparation du silicium pour l'hétéroépitaxie

 

Présentation Christophe Figuet (SOITEC):

Préparation des substrats: problématique et enjeux

 

Présentation Luc Favre (IM2NP):

Préparation des substrats de Si pour la croissance de nanostructures SiGe

 

Présentation Chantal Fontaine (LAAS):

Préparation des substrats III-V pour la reprise d'épitaxie (partie I)

 

Présentation Laurent Cerutti (IES):

Préparation des substrats III-V pour la reprise d'épitaxie (partie II)

 

Présentation Guy Feuillet (CEA Leti):

Croissance sélective de matériaux nitrures: technologies et applications aux structures émissives

 

Présentation Sébastien Plissard (LAAS):

Préparation des substrats pour la croissance VLS de nanofils III-V

 

Présentation Ludovic Desplanque (IEMN):

Préparation des substrats pour la croissance sélective de nanostructures III-V

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